离子交换去除二氧化硅

离子交换（IX）是一种工艺，其中使物流通过树脂基材，该基材有助于去除离子污染物，并用类似带电粒子代替它们。IX去除二氧化硅可能是一个微妙的过程。但是，如果使用得当，与其他处理技术相比，IX可以最彻底地去除离子二氧化硅。请记住，IX最适合您的工艺，并且给水中二氧化硅的浓度很高，您的离子交换剂需要更大，因为您必须注意向离子交换剂中装载了多少二氧化硅，并防止结垢。树脂。  

在正常使用过程中，将需要通过树脂再生步骤来维护IX系统 。再生周期中苛性碱的不正确应用是IX树脂和设备上二氧化硅结垢的主要原因。为防止树脂结垢和泄漏，工厂应仔细监控IX处理周期，并遵循制造商的建议适当地再生IX树脂。

另外，软化可用作IX二氧化硅去除之前的预处理。这样做可以确保在循环中不会同时出现流中存在的钙和/或镁，并且不会干扰IX二氧化硅的去除过程

膜过滤去除二氧化硅

当涉及到膜过滤和更高量的二氧化硅时，您只需要确保膜自由流动且不会堵塞即可，您将不得不更频繁地清洁它们。在使用膜处理二氧化硅时，浓度非常重要。如果未设置正确的参数，并且未采取措施将污垢降到最低，则清洁膜可能会很困难，您将需要更频繁地更换膜。

如果二氧化硅浓度过高，则必须进行沉淀步骤，并且通常将需要使用化学药品和改变pH值将所有物质聚集在一起并形成絮凝物。在许多情况下，您将需要使用石灰软化剂，除除去石灰和碱度外，还需要将二氧化硅带走。

有时使用这些步骤可能会遇到问题，尤其是在过程需要更改温度的情况下，例如热石灰软化就是这种情况。温度的这种变化会影响碳酸钙的溶解度，这也会影响您对二氧化硅的处理。如果可能的话，大多数设施将尽量避免这种情况，因为加热水的能源成本很高。

在考虑膜之前，您可能必须先查看前期的降水量。即使这样，您也必须小心，因为在沉淀时，您会产生使化合物的溶解度最小的情况。假设您已经改变了温度，或者您添加了某种化学物质，从而使它从溶解的离子变成会沉淀为固体的物质。剩下的将是平衡状态，以及溶液处于适当浓度以生成固体的情况，并且当您用反渗透装置除去水时，会看到更多的固体废物。

一些需要获得极低二氧化硅含量的设备可以使用RO，然后再使用混合床抛光机。从反渗透中走出来时，通常会发现二氧化硅含量较低，但是如果您需要获得非常纯净的水，则必须在反渗透的后端进行离子交换以对其进行抛光。

哪个对您的过程更好？

与您的设施要解决的任何挑战一样，正确的解决方案通常取决于环境和您要完成的任务。去除二氧化硅的情况也是如此，部分原因是水的来源以及二氧化硅的含量和形式变化很大，而且正如我们在本文引言中提到的那样，二氧化硅以多种不同的形式存在于天然水源中，例如溶解的物质或离子或聚合的（非常大的分子）和胶体形式（比粒子更多的是粒子）。

二氧化硅的形式通常是在离子交换和膜过滤之间进行选择的驱动因素。而注意力将决定到什么程度。例如，如果您有硅胶，则离子交换可能不是最佳选择，因为离子交换剂会从水中除去离子物质，而不是悬浮固体。另一方面，使用反渗透或超滤（UF）可以去除悬浮的固体，但如果使用不当，二氧化硅也会迅速弄脏膜。当使用膜过滤去除二氧化硅时，您只能在其开始覆盖膜表面之前处理一定的进料浓度。

尽管这是对一个复杂问题的极其简化的答案，但是如果您希望摆脱溶解的或反应性的二氧化硅，则离子交换可能是最佳选择。如果您使用胶体或聚合二氧化硅，则可能必须使用膜法。